氮化硼陶瓷通過(guò)熱壓制成。這種工藝?yán)酶哌_(dá)2000°C (3632°F)的溫度和高壓有道氮化硼粉末燒結(jié)成為一個(gè)大的緊實(shí)塊體，稱(chēng)作坯料。這些氮化硼坯可以輕易地被加工成型并且精密加工成復(fù)雜地形狀和光滑地表面。不用青料燒結(jié)，研磨，拋光地易加工性使得許多高級(jí)工程領(lǐng)域的原型制作，設(shè)計(jì)更改和認(rèn)證周期都更加容易和快速。除了許多高級(jí)陶瓷所共有的熱機(jī)械和電氣特性外，BN 在等離子體環(huán)境中的獨(dú)特之處在于，即使在存在強(qiáng)電磁場(chǎng)的情況下，它還是對(duì)濺射的抵抗力和低二次離子生成傾向。抗濺射有助于延長(zhǎng)組件的使用壽命，而低二次離子生成有助于保持等離子體環(huán)境的完整性。

它已被作為高級(jí)絕緣體用于各種薄膜涂層工藝，如等離子體增強(qiáng)的物理氣相沉積 （PVD）。氮化硼陶瓷還用于提高軌道衛(wèi)星上霍爾效應(yīng)推進(jìn)器的性能和服務(wù)長(zhǎng)度。

氮化硼陶瓷用于物理氣相沉積

物理氣相沉積是指用于各種材料的表面工程的多種真空薄膜涂層方法。PVD 涂層方法采用多種方法之一，將目標(biāo)材料生成并沉積到基板表面，包括濺射沉積，PVD 涂層方法通常用于光電子器件的制造、汽車(chē)和航空航天的精密部件等。

濺射是一個(gè)獨(dú)特的過(guò)程，通過(guò)持續(xù)的等離子轟擊，粒子被強(qiáng)行從目標(biāo)材料中噴出。氮化硼陶瓷廣泛用于將濺射室中的等離子弧約束到目標(biāo)材料上，并防止工藝室中整體部件的侵蝕。

圣戈班氮化硼提供幾個(gè)Combat?可加工陶瓷的型號(hào)可用于PVD組件。AX05、HP 和 ZSBN 級(jí)通常用于制造用于 PVD 等離子室的電弧護(hù)罩和導(dǎo)軌、目標(biāo)框架、屏蔽和襯墊。

氮化硼陶瓷用于霍爾推進(jìn)器

霍爾效應(yīng)推進(jìn)器使用等離子體作為軌道衛(wèi)星和深空探測(cè)器的推進(jìn)方法。這種等離子體是由推進(jìn)劑氣體的電離產(chǎn)生的，推進(jìn)劑氣體通過(guò)高性能陶瓷通道內(nèi)的強(qiáng)烈徑向磁場(chǎng)。應(yīng)用的電場(chǎng)軸向加速等離子體并通過(guò)放電通道，達(dá)到每小時(shí)數(shù)萬(wàn)英里的潛在出口速度。這種先進(jìn)技術(shù)的挑戰(zhàn)是陶瓷放電通道屈服于過(guò)早的等離子體侵蝕。

氮化硼陶瓷已成功用于延長(zhǎng)霍爾效應(yīng)等離子推進(jìn)器的使用壽命，同時(shí)不限制其電離效率，也不限制其推進(jìn)能力。Combat?可加工陶瓷級(jí) AX05、HP 和 M26 已通過(guò)衛(wèi)星專(zhuān)家成功測(cè)試，并應(yīng)用于世界各地的霍爾效應(yīng)等離子室。

來(lái)自于圣戈班的氮化硼陶瓷

圣戈班氮化硼事業(yè)部專(zhuān)精于提升氮化硼陶瓷和粉末的性能來(lái)滿(mǎn)足全世界各種先進(jìn)工業(yè)部門(mén)對(duì)于陶瓷性能的高級(jí)別要求。

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